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FilmTec 膜元件清洗与消毒指南

资料来源：杜邦™ FilmTec™ 反渗透和纳滤膜元件产品与技术手册（2024版）｜ 更新时间：2026-09-16

清洗条件

• 标准化产水量降低10%以上
• 进水和浓水之间的标准化压差上升15%
• 标准化透盐率增加5%以上

以上标准（基准）比较条件取自系统经过最初48小时运行时的操作性能。

清洗安全注意事项

• 使用任何清洗化学品时，必须遵循获得认可的安全操作规程。
• 准备清洗液时，应确保所有化学品充分溶解和混合。
• 清洗后应采用不含余氯等氧化剂的水冲洗，最低温度>20°C。
• pH 2~10时温度不应超过50°C，pH 1~11时温度不应超过35°C，pH 1~12时温度不应超过30°C。
• 直径大于6英寸的元件，清洗液流动方向与正常运行方向必须相同，以防止望远镜现象。

清洗药剂

清洗步骤（单段系统）

1. 配制清洗液。
2. 低流量输入清洗液：以表7-1流量值的一半，低流量低压力置换元件内的原水。
3. 循环：让清洗液循环回清洗水箱并保证温度恒定。
4. 浸泡：停止清洗泵，让膜元件完全浸泡在清洗液中，一般1小时，顽固污染物可浸泡10~15小时或过夜。
5. 高流量水泵循环：按表7-1流量循环30~60分钟。
6. 冲洗：用预处理的合格产水冲洗系统内的清洗液，最低冲洗温度20°C。

清洗步骤（多段系统）

在多段系统的冲洗和浸泡步骤中，可以对整个系统的所有段同时进行，但对于高流量的循环必须分段进行，以保证循环流量对第一段不会太低而对最后一段不会太高。

膜系统消毒

• 生物污染是RO/NF系统操作中最常见和最严重的问题之一。
• 可以使用过氧化氢或过氧化氢与过乙酸的混合物进行杀菌与消毒，浓度0.1%~0.25%，温度不超过25°C。
• 含氯杀菌消毒剂（如次氯酸钠）会氧化膜表面，应避免连续接触，余氯含量应<0.1 ppm。
• 甲醛、硫酸铜等也可用于特定场景，但需注意其适用条件和限制。

常见问题 FAQ